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支持7nm！高端DUV光刻机可出口后 ASML加快订单处理
ASML上周已经声明，高端DUV光刻机可以出口，而这也会让他们加快处理相应的订单。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。 ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000…- 383
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